合作客戶/
拜耳公司 |
同濟大學 |
聯合大學 |
美國保潔 |
美國強生 |
瑞士羅氏 |
相關新聞Info
-
> 氣溶膠固定劑PAM-b-PVTES合成路線及GPC、DSC、表麵張力等性能測試(二)
> 礦化度對含有氧丙烯鏈節和氧乙烯鏈節的表麵活性劑的界麵張力影響
> 液體表界麵張力測試的注意事項
> 最大拉杆法的基本原理、實驗步驟、影響因素及其在測定溶液表麵張力中的應用
> 界麵張力作用下開發MAPbBr3鈣鈦礦單晶製備方法
> 界麵張力對低滲親水岩心自發滲吸的影響因素
> 粉色视频APP在线观看高清观看應用案例:鉛試金富集稱量法測定含銅物料中金和銀含量
> 幾種陰離子表麵活性劑的基本性質及應用性能
> 我國地表水優良比例已接近發達國家水平
> 粉色视频在线下载應用:不同初始表麵壓力條件對VhPLD的磷脂吸附親和力影響(一)
推薦新聞Info
-
> 燒結礦致密化行為研究:不同堿度條件下熔體的表麵張力、表觀黏度值(三)
> 燒結礦致密化行為研究:不同堿度條件下熔體的表麵張力、表觀黏度值(二)
> 燒結礦致密化行為研究:不同堿度條件下熔體的表麵張力、表觀黏度值(一)
> 如何提高非離子表麵活性劑的表麵張力預測精度
> 不同水淹程度的油藏環境下微生物提高采收率、采出液的表麵張力與界麵張力的變化(二)
> 不同水淹程度的油藏環境下微生物提高采收率、采出液的表麵張力與界麵張力的變化(一)
> 新型助排劑配方組分、對表/界麵性能的影響及助排效果(三)
> 新型助排劑配方組分、對表/界麵性能的影響及助排效果(二)
> 新型助排劑配方組分、對表/界麵性能的影響及助排效果(一)
> 電噴霧質譜離子源技術優化策略:降低外鞘液表麵張力,加速液滴溶劑蒸發
中性聚合物鍵合劑(NPBA)與奧克托今(HMX)界麵張力測定及應用效果(二)
來源:兵工學報 瀏覽 248 次 發布時間:2025-06-13
2模擬實驗結果與分析
2.1NPBA與HMX界麵作用的MD模擬
2.1.1 HMX晶體形貌及其吸附NPBA界麵模型
由於HMX以晶體形式存在,因此建立HMX吸附NPBA界麵模型前,需先確定與NPBA分子產生作用的具體晶麵。為此,選用與實驗結果吻合較好的Growth Morpholog方法,計算得到了HMX的晶體形貌,為棱柱狀晶體(見圖2),其主要晶麵及參數見表1.
由表1可知,HMX晶體主要有(0 1 1)、(1 1-1)、(0 2 0)、(1 0 0)和(1 0-2)共5個晶麵圍合組成,它們即為影響晶體形貌最重要的麵。其中,(0 1 1)晶麵麵積最大,占總麵積的61.1%,其次為(1 1-1)晶麵,占總麵積的29.5%.這兩個晶麵共占HMX晶體顯露麵積的90.6%以上,具有代表性,且二者顯露麵上均有—NO2基團分布,易與NPBA分子上的極性分子產生相互作用。
因此,以(0 1 1)和(1 1-1)晶麵(見圖2)為基礎,建立吸附NPBA界麵模型,進行後續研究。首先將(0 1 1)和(1 1-1)晶麵分別擴展為(2×4)和(4×2)的超晶麵,真空層為0;然後根據上述2個超晶麵的尺寸建立NPBA的無定型片層模型(見圖2),共6個;最後將超晶麵與片層模型複合,構建HMX吸附NPBA的6個界麵模型,分別為HMX(0 1 1)/NPBA1、HMX(1 1-1)/NPBA1、HMX(0 1 1)/NPBA2、HMX(1 1-1)/NPBA2、HMX(0 1 1)/NPBA3和HMX(1 1-1)/NPBA3(見圖2)。
表1 HMX的主要晶麵及參數
2.1.2結合能
結合能是表征混合體係組分間相互作用力強度的特征參數,HMX吸附NPBA界麵模型的結合能越大,表明界麵間的相互作用越強。結合能Eb=(EHMX+ENPBA)-EHMX/NPBA,其中EHMX、ENPBA和EHMX/NPBA分別為界麵模型中HMX晶麵、NPBA以及界麵模型的平均單點能。6種界麵模型結合能的模擬計算結果見表2.
表2界麵吸附模型的結合能
由表2可知,NPBA在(0 1 1)和(1 1-1)晶麵上結合能的大小次序均為NPBA3>NPBA2>NPBA1,表明NPBA3與HMX晶體的界麵相互作用最強,NPBA2次之,NPBA1相對最弱。從NPBA分子結構的角度分析,NPBA2和NPBA1分子鏈上均有20個—CN基團,二者的主要差別在於—COOCH2CH2OH和—COOCH3基團的差異。相對於—COOCH3基團,雖然—COOCH2CH2OH基團的體積較大,空間位阻作用更強,降低了NPBA2分子鏈上極性原子與HMX晶麵上—NO2基團間的相互作用,但—OH基團可與—NO2基團發生誘導作用而增強相互作用力,因而整體上提高了相互作用能,導致HMX晶麵與NPBA2的結合能大於NPBA1.與NPBA2相比,NPBA3分子鏈上的—CN基團增加了8個,增強了—CN基團與HMX晶麵上—NO2基團間的相互作用,同時由於—COOCH2CH2OH基團減少了3個,空間位阻作用隨之弱化,這兩方麵的因素補償並超出了因—OH基團減少而降低的結合能,使HMX晶麵與NPBA3的結合能大於NPBA2.
2.1.3徑向分布函數
對於NPBA與HMX晶體界麵間的分子間相互作用力情況,可通過計算體係內各原子對的徑向分布函數g(r)予以分析。徑向分布函數是反映材料微觀結構的特征物理量,它表示在距離某一設定中心粒子A為r處,另一設定粒子B的數目密度與B平均數目密度的比值,即
式中:NAB表示與中心粒子A距離為r到r+dr處粒子B的數目;ρ表示粒子B的平均數目密度。
由於體係的原子種類較多,考慮到篇幅因素,且相對於氮原子,—NO2基團中氧原子與其他極性分子間的作用力更強,為此僅選取了HMX(0 1 1)晶麵上—NO2基團中氧原子,對其與NPBA分子基團上極性原子間的徑向分布函數進行了計算,並根據徑向分布函數曲線峰的位置和高低判斷原子間的作用力類型和強弱。
HMX(0 1 1)晶麵上—NO2基團中氧原子O1與NPBA分子鏈上—CN基團上氮原子NNPBA之間的徑向分布函數曲線見圖3.
圖3界麵模型中O1-NNPBA原子對的徑向分布函數
由圖3可知,O1-NNPBA1、O1-NNPBA2和O1-NNPBA3原子對分別在0.33nm和0.46nm附近出現峰,峰值分別為2.33、2.42、4.17和2.53、1.70、2.35,表明HMX(0 1 1)晶麵上—NO2基團中O原子與3種NPBA分子鏈上—CN基團中N原子間存在近程和遠程範德華力,其中O1-NNPBA3原子對間的近程範德華力作用最強,O1-NNPBA1原子對間的遠程範德華力作用最強。可見對於NPBA分子而言,增加—CN基團的數量可增強其與HMX晶體間的近程範德華力作用;同時,減少乃至用—COOCH3基團替代—COOCH2CH2OH基團可弱化分子鏈側基的空間位阻作用,有利於增強—CN基團與HMX晶體間的遠程範德華力作用。
HMX(0 1 1)晶麵上—NO2基團中氧原子O1與NPBA分子鏈上—COOCH2CH2OH和—COOCH3基團上羰基氧原子O1NPBA之間的徑向分布函數曲線見圖4.
圖4界麵模型中O1-O1NPBA原子對的徑向分布函數
由圖4可知,O1-O1NPBA1、O1-O1NPBA2和O1-O1NPBA3原子對在0.34 nm附近的範德華力峰值依次降低,分別為2.69、2.52和2.42.由此可知,減少乃至用—COOCH3基團替代—COOCH2CH2OH基團,雖可弱化分子鏈側基的空間位阻作用,有利於增強—CN基團與HMX晶體間的範德華力作用,但卻一定程度上減弱了—COOCH2CH2OH和—COOCH3基團與HMX晶體間的範德華力作用。
HMX(0 1 1)晶麵上—NO2基團中氧原子O1與NPBA分子鏈上—COOCH2CH2OH基團上羥基氧原子O2NPBA之間的徑向分布函數曲線見圖5.
圖5界麵模型中O1-O2NPBA原子對的徑向分布函數
由圖5可知,O1-O2NPBA1、O1-O2NPBA2和O1-O2NPBA3原子對在0.27 nm和0.35 nm附近出現範德華力峰,峰值分別為2.79、3.48、3.11和3.19、4.08、3.55,表明3種原子對之間形成O—H…O型氫鍵的同時,還存在範德華力作用。且HMX晶體與NPBA2分子之間的兩種作用力最強,與NPBA3分子次之,與NPBA1分子相對最弱,其強弱順序由NPBA分子鏈上—COOCH2CH2OH基團的數量決定。
上述模擬結果不僅從分子層麵證明了NPBA與HMX晶體間存在較強的界麵作用力,而且根據作用力的種類及強弱變化情況,還證實了2.1.2節中的推論,即用—COOCH2CH2OH基團取代—COOCH3基團,或增加—CN基團數量,整體上增強了NPBA與HMX晶體的界麵作用力,使複合體係結合能增加。